特許

J-GLOBAL ID：201103016745247870

化合物

発明者： 新海 征治 ,  原口 修一 ,  白木 智丈 ,  小川 雅司 ,  中谷 修平 ,  坂上 恵 ,  後藤 修 ,  柿本 秀信
出願人/特許権者： 財団法人九州先端科学技術研究所 ,  パナソニック株式会社 ,  住友化学株式会社
代理人 (3件)： 田中 光雄 ,  山田 卓二 ,  西下 正石
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-263203
公開番号（公開出願番号）：特開2011-105655
出願日： 2009年11月18日
公開日（公表日）： 2011年06月02日
要約：

【課題】光を照射して機能性薄膜の微細パターニングを行う場合に、光を照射する層の下地層の特性低下及び機能性薄膜の特性低下を抑制すること。 【解決手段】感光性を有する基であって光二量化反応をしうる基と、親液性を有する基とを含む化合物(A)と、感光性を有する基であって光二量化反応をしうる基と、撥液性を有する基とを含む化合物(B)とを、光の照射により、二量化反応させて得られる化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

感光性を有する基であって光二量化反応をしうる基と、親液性を有する基とを含む化合物(A)と、感光性を有する基であって光二量化反応をしうる基と、撥液性を有する基とを含む化合物(B)とを、光の照射により、二量化反応させて得られる化合物。

IPC (1件)：

C07F 7/18

FI (1件)：

C07F7/18 N

Fターム (11件)：

2H125CB06 ,  2H125CC01 ,  2H125CC28 ,  2H125FA05 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ37 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VU24 ,  4H049VW01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• デバイス、薄膜トランジスタおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-263201   出願人：財団法人九州先端科学技術研究所, パナソニック株式会社, 住友化学株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Russian Chemical Bulletin, International Edition, (2005), Vol.54, No.5, p.1250-1253