特許
J-GLOBAL ID：201103016843333653
表面分析機器による粒子分析方法及びその粒子分析方法の実施に用いる表面分析機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
最上 健治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-144322
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338067
特許番号：特許第3761743号
出願日： 1999年05月25日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 表面分析機器を用いて試料表面の粒子の分析を行う粒子分析方法において、試料に対して電子ビームを相対的に走査しながら照射し、試料より発生する反射電子又は2次電子の強度に基づいて反射電子像又は2次電子像を生成するステップと、生成された反射電子像又は2次電子像に基づいて測定粒子を検出し、該測定粒子の重心位置を判定するステップと、判定された測定粒子の重心位置に粒子が存在する場合は該重心位置を測定位置として電子ビーム又は特性X線の照射による分析を実行し、判定された測定粒子の重心位置に粒子が存在しない場合は該重心位置を中心として4方向又は8方向において存在する粒子領域の長さを求め、求められた当該長さのうちで最大となる長さの直線の中点を測定位置として分析を実行するステップとを備えていることを特徴とする表面分析機器による粒子分析方法。
IPC (2件)：
G01N 23/225 ( 200 6.01)
, G01B 15/00 ( 200 6.01)
G01N 23/225
, G01B 15/00 A
, G01B 15/00 B
