特許
J-GLOBAL ID：201103016987793934
電磁加速プラズマによる溶射方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-266351
公開番号（公開出願番号）：特開2002-069603
特許番号：特許第3331375号
出願日： 2000年09月01日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 先端が開口し、後端が電気絶縁体で封止された筒体内における筒体の先端開口から離れた部分に微粉末状溶射材料をパルス的に供給する工程と、該微粉末状溶射材料の供給直後に、該筒体の中心部に該筒体の長さ方向に沿って配設された陽極と該筒体内壁面との間にパルス電圧を印加するとともに、該筒体内における前記筒体の先端開口から離れた部分の溶射材料供給部付近に高温のパルスプラズマを発生させる工程と、該高温パルスプラズマを該筒体内において前記筒体の先端開口から離れた部分から該筒体開口に向けて電磁加速させるとともに、該高温パルスプラズマにより該筒体内に供給された微粉末状溶射材料を溶融させて液状微粒子化させる工程と、該筒体開口から、該溶射材料の液状微粒子を該電磁加速された高温パルスプラズマとともに筒外へ射出させる工程からなることを特徴とする電磁加速プラズマによる溶射方法。
IPC (5件)：
C23C 4/00
, B05B 1/24
, B05D 1/08
, C23C 4/12
, H05H 1/42
C23C 4/00
, B05B 1/24
, B05D 1/08
, C23C 4/12
, H05H 1/42
