特許
J-GLOBAL ID：201103017333569985
膜形成方法および膜形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201311
公開番号（公開出願番号）：特開2001-026883
特許番号：特許第3372904号
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 超微粒子室内に配設された蒸発源より蒸発する超微粒子を、該超微粒子室内に導入されるガスと共に、該蒸発源の上方に開口部を有する搬送管を介して膜形成室に搬送し、該搬送管の他開口部に結合されたノズルに対向して該膜形成室内に設置された基板上に、該ノズルから噴射する該超微粒子を堆積させることにより膜形成する膜形成方法において、第一次加熱手段で前記蒸発源を溶融点以下近傍に加熱維持し、第二次加熱手段で急速加熱し蒸発させることを特徴とする膜形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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