特許
J-GLOBAL ID：201103017654519769
汚れ放出剤
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 馨 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-313443
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131591
特許番号：特許第3405942号
出願日： 1999年11月04日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記一般式(1)及び/又は一般式(2);;化1::(式中、X1、X2、X3は、それぞれ独立に水素原子又はSO3-Y+であり、少なくとも1つがSO3-Y+である。また、Y+は陽イオンを示し、m及びnはそれぞれ独立に、1〜1000の整数である。また、Rは炭素数1〜5のアルキル基である。)で示される化合物からなる汚れ放出剤。
IPC (2件)：
FI (2件)：
前のページに戻る
