特許
J-GLOBAL ID：201103019120499722
薄膜製造方法および薄膜素子
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-267905
公開番号（公開出願番号）：特開2011-114087
出願日： 2009年11月25日
公開日（公表日）： 2011年06月09日
要約：
【課題】低コストで安定した品質の薄膜を製造することができる薄膜製造方法を提供する。【解決手段】薄膜製造方法であって、基板20上に形成させる薄膜の原料溶液中に、基板20を配置する配置工程と、第1光源13から原料溶液中の溶媒の光吸収率が所定の閾値以上となる波長の第1の光を照射し、第2光源14から第1の光に比べて溶媒の光吸収率が低い波長の第2の光を照射することにより、基板20の第1主面20a上に薄膜を形成する第1形成工程とを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の第1主面上に形成させる薄膜の原料溶液中に、前記基板を配置する配置工程と、
第1光源から前記原料溶液中の溶媒の光吸収率が所定の閾値以上となる波長の第1の光を照射し、第2光源から前記第1の光に比べて前記溶媒の光吸収率が低い波長の第2の光を照射することにより、前記基板の前記第1主面上に前記薄膜を形成する第1形成工程と
を有することを特徴とする薄膜製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/316
, H01L 41/187
, H01L 41/24
H01L21/316 Z
, H01L41/18 101D
, H01L41/22 A
5F058BA04
, 5F058BC03
, 5F058BD05
, 5F058BF41
, 5F058BG03
