特許

J-GLOBAL ID：201103019258054713

滅菌処理方法及び滅菌装置

発明者： 廣瀬 智之 ,  三毛 正明 ,  岩崎 龍一
出願人/特許権者： 株式会社サイアン
代理人 (3件)： 小谷 悦司 ,  小谷 昌崇 ,  平田 晴洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-148847
公開番号（公開出願番号）：特開2011-004802
出願日： 2009年06月23日
公開日（公表日）： 2011年01月13日
要約：

【課題】被処理物に対して充分な滅菌処理を行える一方で、滅菌処理の効率を効率良く行う。【解決手段】滅菌装置100は、二酸化窒素(NO2)を滅菌剤として用いる滅菌装置であって、滅菌処理のための密閉空間を提供する滅菌室102、NO2ガスを生成するプラズマ発生部103、触媒部104、浄化装置105及び制御部109を含む。滅菌室102にNO2ガスが導入され、被処理物Tを滅菌剤に暴露させる滅菌処理が行われる。この滅菌処理は、被処理物TのNO2ガスに対する暴露時間をT(min)、滅菌室102内におけるNO2ガスの濃度をD(kppm)とするとき、次式を満たす滅菌処理である。 T×D≧1000(kppm・min) 但し、T≦120min【選択図】図1

請求項（抜粋）：

密閉空間において被処理物を滅菌剤に暴露させる滅菌処理を行う方法であって、 前記滅菌剤として窒素酸化物ガスを用い、 前記滅菌処理として、前記被処理物の前記窒素酸化物ガスに対する暴露時間をT(min)、前記密閉空間における前記窒素酸化物ガスの濃度をD(kppm)とするとき、次式を満たす滅菌処理を行うことを特徴とする滅菌処理方法。 T×D≧1000(kppm・min) 但し、T≦120min

IPC (1件)：

A61L 2/20

FI (2件)：

A61L2/20 G ,  A61L2/20 C

Fターム (10件)：

4C058AA12 ,  4C058AA25 ,  4C058BB07 ,  4C058CC02 ,  4C058DD01 ,  4C058DD03 ,  4C058DD05 ,  4C058EE26 ,  4C058JJ16 ,  4C058JJ28