特許
J-GLOBAL ID：201103019311032115

煙霧流れからの揮発性成分の除去方法及び装置

発明者：
セルジュ ジョルジュ

セルジュ ジョルジュ について

, 
ジャン-ピエール デュダ

ジャン-ピエール デュダ について


出願人/特許権者：
エフセーベー シマン ソシエテ アノニム

エフセーベー シマン ソシエテ アノニム について


代理人 (5件)： 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  福本 積 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-393817
公開番号（公開出願番号）：特開2002-282639
特許番号：特許第4663935号
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 粒子含有煙霧流れの少なくとも5%の画分をバイパス煙霧として抽出し、少なくともそれらの粒子に関して、前記バイパス煙霧の有害な成分を、抽出された前記画分の関数である分布に従って凝縮させ、そして前記バイパス煙霧を純化して前記粒子を捕獲して、前記有害な成分を分離する、粒子含有煙霧流れに含有される有害な揮発性成分の除去方法であって、 前記バイパス煙霧の純化のときに、前記粒子を、前記有害な成分の分布に適合した分離選択性を使用して、粒度が微細な画分と粒度が粗い画分の少なくとも2つの画分に分離し、それによって前記粒度が粗い画分に有害な成分が少なく、且つ前記粒度が微細な画分が有害な成分に富むようにし、そして有害な成分が少ない前記粒度が粗い画分の少なくとも一部を再導入し、且つ 前記バイパス煙霧の純化の第1の操作を、前記バイパス煙霧の流れを拡げ、そして静電集塵処理することによって行って、前記粗い画分が、この第1の純化操作で捕らえられた粒子で構成されるようにする、 粒子含有煙霧流れに含有される有害な揮発性成分の除去方法。
IPC (4件)：
B01D 50/00 ( 200 6.01) ,  B04C 3/04 ( 200 6.01) ,  C04B 7/60 ( 200 6.01) ,  F23J 15/02 ( 200 6.01)
FI (6件)：
B01D 50/00 501 A ,  B01D 50/00 501 J ,  B01D 50/00 501 Q ,  B04C 3/04 ,  C04B 7/60 ,  F23J 15/00 C
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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