特許

J-GLOBAL ID：201103019554725470

ピラゾロピリミジン及びピラゾロトリアジン

発明者： ミカエル・ベース ,  クラウス・リーメル ,  ハインツ・シュターデラー
出願人/特許権者： エフ.ホフマン-ラ ロシュ アーゲー
代理人 (1件)： 津国 肇 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-061149
公開番号（公開出願番号）：特開2000-186090
特許番号：特許第3231288号
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 一般式(I-A)若しくは(I-B):;;化1::(式中、R1は、フェニル(これは、場合により、低級アルキル、ハロゲン又は低級アルコキシの1個若しくは2個により置換されている)、トリル、ピリジル、ナフチル又はチオフェニルを表わし;R2は、水素、低級アルキル、低級チオアルキル又はヒドロキシ-低級アルコキシを表わし;R3は、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ-低級アルキルアミノ、ピペラジニル(これは、場合により、低級アルキル、ベンジル、フェニル又はヒドロキシ-低級アルキルの1個若しくは2個により置換されている)、モルホリニル、イミダゾリル、(CH3)2N(CH2)nNH-、(CH3)2N(CH2)nO-、又はモルホリニル-(CH2)nO-(ここで、nは、2又は3を意味する)を表わし;R4は、水素、低級アルキル又はヒドロキシ-低級アルキルを表わし;R5は、水素、ハロゲン、低級アルキル、C3-C6-シクロアルキル、低級アルキル-低級アルコキシ、ヒドロキシ-低級アルキル-低級アルコキシ、(CH3)2N(CH2)nNH-、ピペラジニル(これは、場合により、低級アルキルにより置換されている)、メチル-ピペラジニル(これは、場合により、低級アルキルにより置換されている)、モルホリニル、メチル-モルホリニル、ジ-低級アルキルアミノ又はジ-低級アルキルアミノ-低級アルキルを表わすか;又はR4とR5は、一緒になって、基:-(CH2)m-又は-CH2-S-CH2-(ここで、mは、3又は4である)を表わす)で示される化合物、及びそれらの製薬学的に許容し得る塩。

IPC (7件)：

C07D 487/04 142 ,  C07D 495/14 ,  A61K 31/519 ,  A61P 25/16 ,  A61P 25/18 ,  A61P 25/24 ,  A61P 25/28

FI (7件)：

C07D 487/04 142 ,  C07D 495/14 D ,  A61K 31/519 ,  A61P 25/16 ,  A61P 25/18 ,  A61P 25/24 ,  A61P 25/28