特許
J-GLOBAL ID：201103019859301718
基板検査装置および基板検査システム並びに基板検査装置の制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
佐藤 一雄
, 橘谷 英俊
, 佐藤 泰和
, 箱崎 幸雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-074116
公開番号（公開出願番号）：特開2000-268767
特許番号：特許第3756010号
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 発生された電子ビームを集束して試料である基板に一次ビームとして入射させるビーム集束手段を有する電子ビーム照射手段と、
前記一次ビームの照射を受けて前記基板から発生した第1の二次電子および反射電子を二次ビームとして検出し、第1の画像信号を出力する電子ビーム検出手段と、
前記第1の画像信号に基づいて前記第1の二次電子および反射電子により形成され前記基板の表面の物理的・電気的状態を表す画像である第1の電子画像を表示する第1の表示手段と、
前記一次ビームを偏向して前記基板の表面に略垂直に入射させる電子ビーム偏向手段を含み、前記二次ビームを拡大投影して前記電子ビーム検出手段に結像させる写像投影手段と、
前記電子ビーム偏向手段が配設された位置を含み、前記電子ビーム偏向手段と前記基板との間で前記二次ビームのビーム軸に垂直な平面に配設され、前記二次ビームの開き角を決定する開き角絞りと、
前記電子ビーム照射手段と前記開き角絞りとの間に配設され、前記一次ビームを偏向するとともに前記開き角絞りの上面で走査させる電子ビーム偏向走査手段と、
前記一次ビームの照射により前記開き角絞りの表面から発生する第2の二次電子および反射電子を検出して第2の画像信号を出力する二次電子検出手段と、
前記第2の画像信号に基づいて前記第2の二次電子および反射電子により形成され前記開き角絞りの状態を表す画像である第2の電子画像を表示する第2の表示手段と、
前記第2の電子画像に基づいて、前記ビーム集束手段および前記電子ビーム偏向走査手段を調整して前記一次ビームの焦点距離と方向と照射面の大きさとを変更する一次ビーム調整手段と、を備えた基板検査装置。
IPC (5件)：
H01J 37/29 ( 200 6.01)
, G01N 23/225 ( 200 6.01)
, H01J 37/04 ( 200 6.01)
, H01J 37/153 ( 200 6.01)
, H01J 37/21 ( 200 6.01)
H01J 37/29
, G01N 23/225
, H01J 37/04 Z
, H01J 37/153 Z
, H01J 37/21
