真空アーク蒸着装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本恵二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-095815
公開番号（公開出願番号）：特開2002-294433
特許番号：特許第4085593号
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基体を収納して真空排気される成膜室と、真空アーク放電によって陰極を蒸発させて陰極物質を含むプラズマを生成する真空アーク蒸発源と、この真空アーク蒸発源と前記成膜室との間を接続している湾曲したダクトと、このダクトの外周にそれぞれ巻かれていて当該ダクトの軸に沿う方向に分散して配置されている複数の磁気コイルであって、前記真空アーク蒸発源によって生成したプラズマを偏向させる磁場を前記ダクトの内面に沿って発生させて当該磁場によって前記プラズマを前記成膜室内の基体の近傍に導く複数の、かつ互いに電気的に直列接続された磁気コイルと、この磁気コイルに前記磁場を発生させるコイル電流を流すコイル電源とを備える真空アーク蒸着装置において、前記コイル電源を、前記磁気コイルに流すコイル電流を反転させることのできるコイル電源とし、かつこのコイル電源を制御して前記磁気コイルに流すコイル電流の方向を反転させる制御器を設けたことを特徴とする真空アーク蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ( 200 6.01) , H05H 1/40 ( 200 6.01) , B01J 19/08 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C23C 14/24 F , H05H 1/40 , B01J 19/08 H

引用特許：

審査官引用 (1件)

矩形真空アークプラズマ源
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-527728 出願人：ベイパーテクノロジーズ,インコーポレイテッド

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