特許

J-GLOBAL ID：201103020057194167

パターン描画装置およびパターン描画方法

発明者： 熱田 均 ,  陶山 武史
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-224348
公開番号（公開出願番号）：特開2011-075635
出願日： 2009年09月29日
公開日（公表日）： 2011年04月14日
要約：

【課題】各主走査において光ビームの合焦位置を基板の主面上に精度よく合わせる。【解決手段】パターン描画装置は、基板9の主面との間の検出距離を取得する距離検出部5およびヘッドからの光ビームのフォーカス調整を行うフォーカス機構471を備える。往路または復路である各主走査において主走査方向に伸びる線状領域にパターンを描画する際に、次の主走査にて描画が行われる線状領域に対して複数の検出距離が取得され、直前の主走査にて取得された複数の検出距離を用いて複数回のフォーカス調整が行われる。制御部6の制御により、主走査方向に関して、往路および復路のそれぞれにて複数の検出距離が取得される検出位置と、複数回のフォーカス調整が完了する際の照射領域の複数の位置とが一致するとともに、往路および復路における複数の検出距離の検出位置が近似する。これにより、各主走査において光ビームの合焦位置が主面上に精度よく合わせられる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板にパターンを描画するパターン描画装置であって、 基板を保持する保持部と、 前記基板の主面に変調可能なエネルギービームを照射するヘッドと、 前記エネルギービームの合焦位置を前記主面上に合わせるフォーカス調整を行うフォーカス機構と、 前記主面に垂直な方向に関して前記主面との間の距離を検出距離として取得する距離検出部と、 往路および復路のそれぞれにおいて前記主面上にて主走査方向に伸びる線状領域にパターンを描画するため、前記保持部を前記ヘッドおよび前記距離検出部に対して相対的に前記主走査方向に往復移動する主走査機構と、 前記主走査方向に関して前記ヘッドおよび前記距離検出部に対する前記保持部の相対的な位置を測定する位置測定部と、 前記主走査方向に垂直かつ前記主面に平行な副走査方向に前記保持部を前記ヘッドおよび前記距離検出部に対して相対的に移動する副走査機構と、 一の主走査による線状領域へのパターンの描画が完了する毎に、前記保持部の前記副走査方向への相対移動、および、前記一の主走査時とは反対の進行方向への前記保持部の相対移動を順に行って前記線状領域に平行な他の線状領域へのパターンの描画を行うとともに、各主走査時に距離検出パルス信号および駆動開始パルス信号を前記距離検出部および前記フォーカス機構に入力して複数の検出距離の取得および複数回のフォーカス調整を行う制御部と、 を備え、 前記主面上において前記エネルギービームの照射領域と、前記検出距離が取得される検出領域とが前記主走査方向に所定の照射-検出間距離だけ離れており、前記各主走査にてパターンが描画される線状領域に対する前記複数の検出距離が、前記各主走査とは反対の進行方向となるN回前の主走査(ただし、Nは1以上の奇数)にて前記距離検出部により取得されるように、前記照射領域と前記検出領域とが前記副走査方向にも離れており、 前記制御部において、前記フォーカス機構への前記駆動開始パルス信号の入力からフォーカス調整の完了までの時間に相当する前記保持部の相対移動距離が駆動遅延距離として設定されるとともに、前記主走査方向に関して前記往路における前記複数の検出距離の検出位置と、前記復路における前記複数の検出距離の検出位置とが近似するように、前記往路および前記復路におけるパルス信号入力の能動化を示す往路パルス入力ON信号、および、復路パルス入力ON信号の前記主走査方向における発生位置も設定されており、 前記制御部が、前記検出領域が前記照射領域よりも先行する前記往路において、前記往路パルス入力ON信号の発生をトリガとして前記位置測定部の出力に基づいて一定のピッチにて前記距離検出パルス信号を繰り返し発生し、前記照射-検出間距離から前記駆動遅延距離を減じた距離だけ各距離検出パルス信号の発生位置から進行方向前側の位置にて前記駆動開始パルス信号を発生し、前記照射領域が前記検出領域よりも先行する前記復路において、前記復路パルス入力ON信号の発生をトリガとして前記位置測定部の出力に基づいて前記一定のピッチにて前記駆動開始パルス信号を繰り返し発生し、前記照射-検出間距離に前記駆動遅延距離を加えた距離だけ各駆動開始パルス信号の発生位置から進行方向前側の位置にて前記距離検出パルス信号を発生することにより、前記各主走査において前記N回前の主走査にて取得される前記複数の検出距離を用いて前記複数回のフォーカス調整が行われることを特徴とするパターン描画装置。

IPC (4件)：

G03F 9/02 ,  G03F 7/207 ,  G03F 7/213 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F9/02 Z ,  G03F7/207 Z ,  G03F7/213 Z ,  H01L21/30 529

Fターム (8件)：

2H097BA01 ,  2H097KA38 ,  2H097LA11 ,  2H097LA12 ,  5F046BA07 ,  5F046DA14 ,  5F146BA07 ,  5F146DA14