特許

J-GLOBAL ID：201103020102214760

パターンの輪郭検出方法及びこの方法を用いた測長装置

発明者： 今村 英一 ,  岡本 浩志
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 前川 幾治
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-174761
公開番号（公開出願番号）：特開平3-039603
出願日： 1989年07月06日
公開日（公表日）： 1991年02月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】画像のパターンを固体撮像素子により撮像し、出力される映像信号を画素単位で多階調のディジタル信号に変換し、この多階調のディジタル信号を前記固体撮像素子の画素座標に対応付けて画像メモリに記憶し、この画像メモリ上の格データに対し、予め定めた閾値と比較して2値化し、この2値化データを2値化メモリに記憶し、前記画像メモリ上の相互に隣接するデータに対し、前記閾値が存すべき座標の補間演算を行うとともに求められた第1の座標データを記憶し、前記2値化メモリ上の2値化データからパターンの輪郭データを抽出し、前記第1の座標データからこの輪郭データの座標値を結ぶ線を中央に所定距離の範囲内にある第2の座標データを抽出し、抽出されたこれら第2の座標データの点列を直線または曲線により滑らかにたどる演算を行い、求められた座標平面上の連続する直線または曲線をもってパターンの輪郭を与えることを特徴とするパターンの輪郭検出方法。

IPC (4件)：

G01B 11/24 F 9108-2F ,  G01B 11/24 K 9108-2F ,  G06T 7/00 ,  G06T 9/20

FI (2件)：

G06F 15/62 405 Z 9287-5L ,  G06F 15/70 335 8837-5L