特許
J-GLOBAL ID:201103020258047995

表面処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 長島 悦夫 ,  井上 一 ,  布施 行夫 ,  大渕 美千栄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-198072
公開番号(公開出願番号):特開2003-013296
特許番号:特許第3591721号
出願日: 2001年06月29日
公開日(公表日): 2003年01月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】搬送方向に延設されたガイドレールに支持された冶具を介して当該冶具に保持されたワークを搬送可能な搬送手段と、搬送中のワークに当該冶具を介して給電する給電手段とを有し、表面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電しつつワークに表面処理を施す表面処理装置において、前記冶具を前記ガイドレールに転がり係合機構を介して支持させるとともに、前記給電手段が搬送方向に延設された給電レールと前記冶具側にバネ式接触圧調整手段を介して装着されかつ給電レールと摺接して集電可能な集電子とを含み形成され、給電レールおよび集電子を内包するチャンバーとこのチャンバーに接続された排気ダクトとを有し、給電レールと集電子との摺接により発生した粉塵を排気ダクトを通して吸引しつつ回収廃棄するための粉塵回収廃棄手段を設けた、表面処理装置。
IPC (2件):
C25D 21/00 ,  C25D 17/00
FI (2件):
C25D 21/00 E ,  C25D 17/00 K
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • めっき装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-302889   出願人:大分日本電気株式会社

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