特許
J-GLOBAL ID:201103020469309996

基板熱処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大坪 隆司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-074292
公開番号(公開出願番号):特開2011-210763
出願日: 2010年03月29日
公開日(公表日): 2011年10月20日
要約:
【課題】 閃光を照射する基板熱処理装置において、基板が汚染されることを解消した基板熱処理装置を提供する。【解決手段】 基板支持体8は、円筒形の外形の一部を、上端面から斜めに切り落とすように傾斜面82を備えている。この傾斜面82は、基板Wの中央から基板支持体8を通る直線Rに垂直であって、かつ、基板Wの主面とは平行である直線Sを想定すると、その直線Sに対して平行な面である、平行な位置関係にある。傾斜面82が傾斜する向きは、基板Wの外周に近づくほど、基板Wの下面から離れる方向へ傾斜している。基板支持体8は、基板の反りを傾斜面82で許容するようにして基板Wを載置するので、基板Wと基板支持体8とが擦れて、発塵することを回避する。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
複数の突起状の基板支持体と、 閃光を照射するフラッシュランプを備え、 前記複数の基板支持体に載置させた基板に、前記フラッシュランプからの閃光を照射することによって、基板を熱処理するようにした基板熱処理装置において、 前記各基板支持体は先端部に、基板の外周へ向かうほどに、基板から遠ざかる向きに傾斜した傾斜面を有することを特徴とする基板熱処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/26 ,  H01L 21/683
FI (2件):
H01L21/26 Q ,  H01L21/68 N
Fターム (24件):
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA09 ,  5F031HA24 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA80 ,  5F031JA01 ,  5F031JA46 ,  5F031JA51 ,  5F031KA02 ,  5F031MA31 ,  5F031NA04 ,  5F031PA13 ,  5F031PA26

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