特許

J-GLOBAL ID：201103020933086059

基板処理装置

発明者： 藤田 太一 ,  荒見 淳一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-198464
公開番号（公開出願番号）：特開平3-062944
特許番号：特許第2645750号
出願日： 1989年07月31日
公開日（公表日）： 1991年03月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理基板に対して所定の処理を施す中高真空処理室と、この中高真空処理室にゲートバルブを介して配設された前記被処理基板の移送手段を有しかつ真空排気可能な移送室とを具備する基板処理装置において、少なくとも前記中高真空処理室の真空排気を、該中高真空処理室の側壁下方に設けられた横長の排気孔に、この排気孔の開孔面積に見合う開口断面積を有する排気管を接続し、この排気管を介して行うよう構成したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/302 C