特許

J-GLOBAL ID：201103021405852161

有機EL素子の機能層の製造装置および製造方法

発明者： 三好 貴之
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (4件)： 中島 司朗 ,  小林 国人 ,  川畑 孝二 ,  木村 公一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-193025
公開番号（公開出願番号）：特開2011-044380
出願日： 2009年08月24日
公開日（公表日）： 2011年03月03日
要約：

【課題】有機ELパネルにおいて、基板上に塗付液を充填し乾燥させて有機EL素子の機能層を形成するときに、形成される膜形状が基板面内でばらつくのを抑えることによって、基板全体に亘って均一的な形状の機能層を形成する。【解決手段】乾燥室21の内部には、インクが充填された基板1を載置する支持台23が設けられ、当該支持台23の上を覆うように拡散調整板24が設けられている。 支持台23の上面には、基板1の温度を調整するためのヒータ25a,25bが設けられている。乾燥装置20には、拡散調整板24を昇降させるための昇降ピン26及び拡散調整板用昇降機構27が設置されている。基板1上に充填されたインクを乾燥する時に、拡散調整板24を基板1の近くに位置させて溶剤の拡散を抑えながら乾燥を行う。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板上のバンクによって挟まれた画素形成予定領域に塗付液を充填し、塗布液に含まれる溶剤を蒸発させることにより乾燥させて有機EL素子の機能層を形成する製造装置であって、 前記基板を支持する支持部と、 前記支持部に支持された基板と間隙をおいて前記基板上の塗付液を覆うように配置され、前記塗付液から蒸発する蒸気の拡散を抑える拡散調整板とを備えることを特徴とする有機EL素子の製造装置。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/22

FI (4件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/12 B ,  H05B33/22 Z

Fターム (10件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107CC45 ,  3K107DD89 ,  3K107EE66 ,  3K107FF14 ,  3K107FF15 ,  3K107GG06 ,  3K107GG35