位相型計算機ホログラムの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：日比谷征彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-312481
公開番号（公開出願番号）：特開2000-200024
特許番号：特許第3413138号
出願日： 1999年11月02日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光の波面の互いに異なる複数の部分に所定の位相を与える複数のセルのそれぞれの位相を設定する段階と、前記セルの位相値の平均二乗誤差を減少するように前記複数のセル内の少なくとも1つのセルの位相を2π変化させることによって前記複数のセルの位相分布を平滑化する段階と、該位相分布を平滑化した複数のセルを基板上に形成する段階とを有することを特徴とする位相型計算機ホログラムの製造方法。

IPC (3件)：

G03H 1/08 , G02B 5/32 , G03H 1/22

FI (3件)：

G03H 1/08 , G02B 5/32 , G03H 1/22

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