特許
J-GLOBAL ID：201103021825967444
チオフェン化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
入山 宏正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-210091
公開番号（公開出願番号）：特開2011-057628
出願日： 2009年09月11日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：
【課題】機能性材料等を製造する際の原料として有用なチオフェン化合物を簡単な工程で効率良く製造することができる方法を提供する。【解決手段】酸触媒存在下に、特定のα-ジオン化合物1モル当たり、アルコール又はその等価体を少なくとも0.5モルの割合で反応させて、特定のジアセタール化合物を得た後、かかるジアセタール化合物1モル当たり、硫黄又は無機硫黄化合物を少なくとも0.5モルの割合で反応させて、特定のチオフェン化合物を得た。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記の第1工程及び第2工程を経ることを特徴とするチオフェン化合物の製造方法。
第1工程:酸触媒存在下に、下記の化1で示されるα-ジオン化合物1モル当たり、アルコール又はその等価体を少なくとも0.5モルの割合で反応させて、下記の化2又は化3で示されるジアセタール化合物を得る工程。
第2工程:第1工程で得たジアセタール化合物1モル当たり、硫黄又は無機硫黄化合物を少なくとも0.5モルの割合で反応させて、下記の化4又は化5で示されるチオフェン化合物を得る工程。
IPC (2件)：
C07D 333/32
, C07D 495/04
C07D333/32
, C07D495/04 101
4C023FA03
, 4C071AA01
, 4C071BB01
, 4C071CC12
, 4C071CC21
, 4C071DD40
, 4C071EE13
, 4C071FF16
, 4C071KK01
, 4C071LL10
