特許
J-GLOBAL ID：201103022030005276
高位合成システム、方法及び記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 満
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-045374
公開番号（公開出願番号）：特開2000-242673
特許番号：特許第3255139号
出願日： 1999年02月23日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】設計対象となる回路に含まれる複数のプロセスの動作を所定の動作記述言語で記述したプロセスの動作記述を入力するプロセス動作記述入力手段と、前記複数のプロセス間でのデータの受け渡しに使用される共有レジスタの識別情報と、各共有レジスタにデータの書き込みを行うプロセスの優先順位とを入力する優先順位入力手段と、前記プロセス動作記述入力手段から入力されたプロセスの動作記述をプロセスのレジスタ転送レベルの記述に変換する高位合成手段と、前記プロセス動作記述入力手段から入力されたプロセスの動作記述と、前記優先順位入力手段から入力された共有レジスタ毎のプロセスの優先順位とに基づいて、前記複数のプロセス間での前記共有レジスタの排他制御に関するレジスタ転送レベルの記述を生成する共有レジスタ制御記述生成手段と、前記高位合成手段が変換したプロセスのレジスタ転送レベルの記述と前記共有レジスタ制御記述生成手段が生成した前記共有レジスタの排他制御に関するレジスタ転送レベルの記述とを統合する統合手段とを備えることを特徴とする高位合成システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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