シリカガラスガスフィルター

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高雄次郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-343709
公開番号（公開出願番号）：特開平3-202116
特許番号：特許第2934866号
出願日： 1989年12月28日
公開日（公表日）： 1991年09月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】非晶質シリカ粉末の焼結体からなる多孔質の支持体、中間層及び濾過層を順次積層して構成され、支持体の構成粒子の平均粒径を5〜100μm、中間層の構成粒子の平均粒径を1〜25μm、及び濾過層の構成粒子の平均粒径を0.1〜1μmとし、純度が99.9%以上で、Na,K,Li,Fe,Al,Ca,Mg,Cu,Tiの合計が150ppm以下であることを特徴とするシリカガラスガスフィルター。

IPC (1件)：