光ディスク及び光ディスクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-181137
公開番号（公開出願番号）：特開2001-357570
特許番号：特許第4174957号
出願日： 2000年06月16日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光学的に再生及び記録が可能である光ディスクの製造方法において、記録再生光の案内溝が形成された第1の基板上に剥離層を形成した後、少なくともその剥離層上に第1の保護層と記録層と第2の保護層と反射層とを順次形成し、この反射層を第1の接着剤層を介して第2の基板と貼り合わせ、その後に前記第1の基板を前記剥離層を境に前記第1の保護層より剥離し、この第1の保護層の剥離面に第2の接着剤層を介して前記第2の基板より板厚の薄い第3の基板の基板面を貼り合わせて光ディスクを製造するようにしたことを特徴とする光ディスクの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 7/26 ( 200 6.01) , G11B 7/24 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G11B 7/26 531 , G11B 7/24 538 F , G11B 7/24 541 N

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