特許

J-GLOBAL ID：201103022616452867

マイクロ波プラズマCVD法による機能性堆積膜形成方法および装置

発明者： 丹羽 光行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 荻上 豊規
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-243504
公開番号（公開出願番号）：特開平3-107467
特許番号：特許第2898311号
出願日： 1989年09月21日
公開日（公表日）： 1991年05月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】実質的に密封された真空容器内に成膜用原料ガスを導入し、同時に該容器内にマイクロ波エネルギーを導入して放電プラズマを生起せしめて、該容器内に設置された基体の表面上に機能性堆積膜を形成するマイクロ波プラズマCVD法による機能性堆積膜形成方法であって、前記基体の膜堆積される表面に少なくとも垂直方向の振動を成膜操作中に与えることを特徴とするマイクロ波プラズマCVD法による機能性堆積膜形成方法。

IPC (3件)：

C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04 V