特許
J-GLOBAL ID：201103022733169840
リグニン誘導体の製造方法およびリグニン二次誘導体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
増田 達哉
, 朝比 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-255937
公開番号（公開出願番号）：特開2011-032492
出願日： 2010年11月16日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：
【課題】フェノール性水酸基の割合を多く含み、反応性基の導入が容易であるリグニン誘導体を提供し、また、樹脂原料として有用な反応性基を導入し、高い架橋密度が期待できるリグニン二次誘導体を提供する。【解決手段】バイオマスを分解して得られるリグニン誘導体であって、前記リグニン誘導体はフェノール性水酸基とアルコール性水酸基をモル比として9:1から8:2の比率で有するものであることを特徴とするリグニン誘導体。前記リグニン誘導体が、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量が300〜2,000であるリグニン誘導体。前記リグニン誘導体に、反応性基を導入したリグニン二次誘導体。前記反応性基は、エポキシ基であるリグニン二次誘導体。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
バイオマスを分解して得られるリグニン誘導体の製造方法であって、
バイオマスをフェノール類、ケトン類およびエーテル類のうちの少なくとも1種を含む有機溶媒存在下におき、これらを高温高圧下で分解処理する分解工程と、
前記分解工程により得られた処理物中の不溶分をリグニンが可溶な溶媒に浸漬処理する浸漬工程と、
前記浸漬工程により得られた処理物中の可溶分から前記リグニンが可溶な溶媒を留去する留去工程と、を有し、
フェノール性水酸基とアルコール性水酸基とをモル比で9:1〜8:2の比率で含むリグニン誘導体を得ることを特徴とするリグニン誘導体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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