特許
J-GLOBAL ID：201103022989583384
高速・温度制御式プラズマスプレー法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
廣江 武典
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-111884
公開番号（公開出願番号）：特開平1-319297
出願日： 1989年04月28日
公開日（公表日）： 1989年12月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】プラズマアークトーチであって、円筒状電気絶縁容器(30)と、該円筒状容器の一方の底部に提供された電気絶縁底部壁と、該円筒状容器の他方の底部に提供され、該円筒状容器の中心軸に沿って下流側に延びたノズル穴(51)を含み、陽極として作用する導電性ノズル体(52)と、を備え、前記電気絶縁底部壁の中央から、前記円筒状容器の中心軸に沿って該円筒状容器内部に突き出し、前記導電性ノズル体(52)とは接触せずに該ノズル体(52)とは電気的に絶縁された陰極棒体(32)と、を含んでおり、前記円筒状容器内部に面した前記ノズル穴(51)端部には該円筒状容器内部に向かって略円錐台状に開いた略円錐台形状部(35)が提供されており、前記円筒状容器内部の前記陰極棒体(32)の先端部は略円錐形状であり、該円錐形状陰極棒体先端部は前記ノズル穴の前記略円錐台形状部(35)内に非接触式に挿入されており、さらに、前記円筒体容器内部に加圧プラズマ形成ガスを導入するガス供給手段を含み、該容器内部に導入された加圧プラズマ形成ガス(53)が前記陰極棒体周囲を渦状に進行して前記ノズル穴(51)に達するようにデザインされており、さらに、前記陰極棒体(32)と前記ノズル体(52)との間に電位差を付与する電位左付与手段を含み、前記ノズル穴(51)から前記陰極棒体先端部にプラズマアークを創出させ、さらに、前記ノズル穴(51)の噴出口から上流側に距離をおいた前記ノズル穴内に該ノズル穴の径を変化させるように変形部が設けられており、該変形部近辺にて発生プラズマアークを好適に変形し、該変形部直下流にイオン化領域を有するアーク柱(55)はノズル穴噴出口に至るまで好条件に維持され、前記陽極ノズル穴噴出部周辺の使用寿命を延長し、前記ノズル穴内全長にわたって前記アークは充分な制御下に置かれており、前記プラズマ形成ガスは前記容器内に垂直方向に供給されて前記陰極棒体周囲を渦流となって進行し、前記ノズル穴内に低圧・高速コアガス流を創出し、該コアガス流は前記ノズル穴内の途中まで小径の集束アーク柱(55)を提供し、前記ノズル穴壁に沿った渦ガス流層は前記変形部あるいはその直下流に該変形部の作用によってアーク陽極リング(59)を形成し、さらに、前記アーク柱(55)の下流側の、高速であって、実質的にイオンが含まれない高温ガス流内に噴出材料を導入する材料供給手段を含み、該高温ガス流の該材料供給領域温度は前記アーク柱の温度よりも低温であり、前記材料の加熱過多を防止している、ことを特徴とするプラズマアークトーチ。
IPC (2件)：
H05H 1/42 9014-2G
, B05B 7/22 7446-4D
