特許
J-GLOBAL ID：201103023044343472
低ソーダアルミナの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
久保山 隆
, 中山 亨
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-366986
公開番号（公開出願番号）：特開2001-180931
特許番号：特許第3893823号
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】ソーダを含有する水酸化アルミニウム又は遷移アルミナに、シリカ系物質をアルミナ粒子を用いて被覆してなるシリカ系脱ソーダ剤を添加し、鉱化剤の存在下で焼成した後、該脱ソーダ剤とアルミナを分離してなる低ソーダアルミナの製造方法。
IPC (4件)：
C01F 7/02 ( 200 6.01)
, C01F 7/46 ( 200 6.01)
, H01B 3/12 ( 200 6.01)
, H01T 13/38 ( 200 6.01)
C01F 7/02 A
, C01F 7/46
, H01B 3/12 337
, H01T 13/38
