特許
J-GLOBAL ID：201103023950061620
高周波焼入装置に用いられる冷却機構及びこの冷却機構を用いた高周波焼入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
大西 孝治
, 大西 正夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-164948
公開番号（公開出願番号）：特開2000-355714
特許番号：特許第3545265号
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】高周波加熱装置に用いられる冷却機構において、高周波加熱コイルでワークの加熱を開始する前に冷却ジャケットから冷却液の噴射を開始し、高周波加熱コイルによるワークの加熱の開始と同時、加熱の開始前又は加熱の開始後に冷却液の噴射を停止する第1噴射を行い、これにより第1噴射完了時点での冷却ジャケット内の冷却液の残量を毎回一定とし、第1噴射の停止から一定時間が経過した時点で前記高周波加熱コイルによって加熱されたワークを冷却するために第2噴射を行うようになっていることを特徴とする高周波焼入装置に用いられる冷却機構。
IPC (2件)：
FI (2件)：
前のページに戻る
