特許
J-GLOBAL ID：201103023981062462
外部回路を用いたプラズマ均一性の電気的制御
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安齋 嘉章
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-550728
公開番号（公開出願番号）：特表2011-517832
出願日： 2009年02月24日
公開日（公表日）： 2011年06月16日
要約：
プラズマ均一性を制御するための方法及び装置を開示する。基板をエッチングする場合、不均一プラズマが基板の不均一なエッチングを引き起こす可能性がある。インピーダンス回路がプラズマの不均一性を軽減して、より均一なエッチングを可能にするかもしれない。チャンバ側壁と接地の間、シャワーヘッドと接地の間、及び陰極缶と接地の間に、インピーダンス回路を配設してもよい。インピーダンス回路は1つ以上の誘導子及びコンデンサを含んでいてもよい。プラズマが均一であることを確保するために、誘導子のインダクタンスとコンデンサの静電容量とをあらかじめ定めてもよい。更に、処理中に、又は処理ステップと処理ステップの間に、特定のプロセスの要求に合うようにインダクタンスと静電容量とを調節してもよい。
請求項（抜粋）：
チャンバ本体と、
前記チャンバ本体の中に配設された基板支持部と、
前記チャンバ本体の中に配設されており前記基板支持部に向かい合っているシャワーヘッドと、
前記基板支持部に接続された電源と、
コンデンサと、誘導子と、それらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも1つの品目を含み、前記少なくとも1つの品目は、前記チャンバ本体、前記シャワーヘッド、及び前記基板支持部のうちの少なくとも2つに接続されているプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, H01L 21/31
, H01L 21/306
H05H1/46 M
, H05H1/46 R
, H01L21/31 C
, H01L21/302 101B
5F004AA01
, 5F004BA04
, 5F004BA20
, 5F045AA08
, 5F045DP03
, 5F045EH13
, 5F045EH14
