特許
J-GLOBAL ID：201103024496426940
ガスワイピング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
森 哲也
, 内藤 嘉昭
, 崔 秀▲てつ▼
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-224081
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049417
特許番号：特許第3788122号
出願日： 1999年08月06日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】液体浴中から引き上げられて連続的に上昇進行する帯状材の幅方向に沿って延在され、該帯状材の表面に向けてガスを噴出することにより、該表面に付着した液体の付着量を調節するガスワイピングノズルと、前記帯状材の幅方向の両側近傍の該帯状材の幅方向の延長面上で、前記ワイピングノズルから噴出されたガスが前記帯状材表面に衝突するガス衝突点を含む高さに配置された一対の遮蔽板と、該遮蔽板の内側と前記帯状材の幅方向の側縁との間に、ガス噴出口を前記ガス衝突点よりも該帯状材の進行方向の下流側に位置させて配置され、該帯状材の進行方向の上流側に向けて前記帯状材の幅方向の延長面内にガスを噴出するエッジワイピングノズルとを備えたガスワイピング装置において、
前記帯状材の幅方向の側縁と前記遮蔽板の内側との間隙C(mm)を4〜7mmとし、
更に、前記エッジワイピングノズルのガス噴出口と前記ガス衝突点との距離をL(mm)とした場合に、距離Lと間隙Cとの関係が-2.0C+20≦L≦-2.5C+45を満足することを特徴とするガスワイピング装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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