特許

J-GLOBAL ID：201103024596362745

透明基材両面へのパターン形成方法

発明者： 長屋 眞紀 ,  鶴田 智博
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-013986
公開番号（公開出願番号）：特開2011-154080
出願日： 2010年01月26日
公開日（公表日）： 2011年08月11日
要約：

【課題】透明基材の両面の透明金属膜上に設けたフォトレジスト膜に同時に、両面に異なるパターン露光を行っても、エッチング及び剥離処理後の透明基材の両面に位置精度の良好な透明金属膜パターンを効率よく、簡便に形成することのできる透明基材両面へのパターン形成方法を提供する。【解決手段】透明基材21の表裏両面に設けた透明金属膜22A、22Bをパターンに形成する際に、透明金属膜の少なくとも一方の透明金属膜上に露光光を遮光する不透明層27を形成し、フォトレジスト膜23A、23Bを形成する。不透明層がエッチング及び剥膜処理にて溶解除去される材料である。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

透明基材の表裏両面に設けられた透明金属膜のパターン形成において、前記透明金属膜の少なくとも一方の透明金属膜上に露光光を遮光する不透明層を形成し、前記透明基材の表裏両面にフォトレジストを塗布してフォトレジスト膜を形成することを特徴とする透明基材両面へのパターン形成方法。

IPC (4件)：

G03F 7/20 ,  H01B 13/00 ,  G03F 7/09 ,  H05K 3/06

FI (4件)：

G03F7/20 501 ,  H01B13/00 503D ,  G03F7/09 ,  H05K3/06 E

Fターム (30件)：

2H097AA01 ,  2H097GA45 ,  2H097LA09 ,  2H097LA11 ,  2H097LA12 ,  2H125CA21 ,  2H125CC01 ,  2H125DA12 ,  2H125DA21 ,  5E339AA01 ,  5E339AB05 ,  5E339AD03 ,  5E339BB01 ,  5E339BC02 ,  5E339BC05 ,  5E339BD11 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CC02 ,  5E339CD01 ,  5E339CE11 ,  5E339CE14 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339CF20 ,  5E339CG04 ,  5E339DD04 ,  5E339EE10 ,  5E339GG10 ,  5G323CA01