特許
J-GLOBAL ID：201103025022997803
外観検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 学
, 戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-171726
公開番号（公開出願番号）：特開2011-028410
出願日： 2009年07月23日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：
【課題】複数のプロセッサの処理能力を効率良く活用してダイ比較検査,セル比較検査,セルダイ混合比較検査を実施可能な外観検査装置を提供する。【解決手段】検査対象基板の回路パターンの複数の画像データを分割して切り出し、分配する条件を画像処理装置に設定する全体制御コンピュータと、画像処理装置に設定された前記条件に従って画像データを切り出し、複数のプロセッサへ分配する画像分配処理部とを備え、該プロセッサは前記分配された画像データについて欠陥検出処理を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
半導体装置の回路パターンが形成された基板の画像データを用いて欠陥を検出する外観検査装置において、
前記回路パターンの複数の画像データを分割して切り出し、分配する条件を画像処理装置に設定する全体制御コンピュータと、
前記画像処理装置に設定された前記条件に従って、前記画像データを切り出し、複数のプロセッサへ分配する画像分配処理部とを備え、
前記プロセッサは、前記画像分配処理部により分配された前記画像データの欠陥検出処理を行うことを特徴とする外観検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (8件)：
5B057AA03
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CE09
, 5B057CH02
, 5B057DA03
, 5B057DC33
