特許
J-GLOBAL ID：201103025337015189
プロピレン系重合体、その製造方法及び成形体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大谷 保
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-284606
公開番号（公開出願番号）：特開2000-355612
特許番号：特許第4252691号
出願日： 1999年10月05日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】(A)下記一般式(II)で表される遷移金属化合物、及び(B)(B-1)該(A)成分の遷移金属化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物及び(B-2)アルミノキサンから選ばれる成分を含有する重合用触媒一種のみの存在下、プロピレンを多段重合工程により重合させて得られる下記(1)〜(4)を満たすプロピレン単独重合体。
(1)メソペンタッド分率(mmmm)が20〜85モル%である
(2)ラセミペンタッド分率(rrrr)と(1-mmmm)が下記の関係を満たす
[rrrr/(1-mmmm)]≦0.1
(3)ゲルパーミエイションクロマトグラフ(GPC)法により測定した分子量分布(Mw/Mn)が2.5〜14.0であり、デカリン溶媒中135°Cにて測定した極限粘度 [η]が0.5〜15.0デシリットル/gである
(4)示差走査型熱量計(DSC)を用い、試料を窒素雰囲気下230°Cで3分間溶融した後、10°C/分で0°Cまで降温後、0°Cで3分間保持した後、10°C/分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブの最も高温側に観測されるピークのピークトップとして定義される融点(Tm)が観測されないか又は100°C以下である
〔式中、Mはチタン、ジルコニウム及びハフニウムの中から選ばれる金属元素を示し、
R4及びR5は、酸素、ハロゲン又は珪素のヘテロ原子を含有する基であり、R6とR7及びR8とR9は環を形成しており、A1及びA2はジメチルシリレン基を示す。X1はσ結合性の配位子を示し、X1が複数ある場合、複数のX1は同じでも異なっていてもよく、他のX1又はY1と架橋していてもよい。Y1はルイス塩基を示し、Y1が複数ある場合、複数のY1は同じでも異なっていてもよく、他のY1又はX1と架橋していてもよい。qは1〜5の整数で〔(Mの原子価)-2〕を示し、rは0〜3の整数を示す。〕
IPC (3件)：
C08F 10/06 ( 200 6.01)
, C08F 4/642 ( 200 6.01)
, C08J 5/00 ( 200 6.01)
C08F 10/06
, C08F 4/642
, C08J 5/00 CES
