特許

J-GLOBAL ID：201103025783712322

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法

発明者： 平野 智之 ,  塩野 大寿 ,  新井 雅俊
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-000662
公開番号（公開出願番号）：特開2011-141332
出願日： 2010年01月05日
公開日（公表日）： 2011年07月21日
要約：

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、露光により酸を発生する含フッ素高分子化合物(C’)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A)が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する樹脂成分であり、含フッ素高分子化合物(C’)が、露光により酸を発生する構成単位と、含フッ素アクリル酸エステル構成単位とを有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、 露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、 露光により酸を発生する含フッ素高分子化合物(C’)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0-1)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する樹脂成分(A1)を含有し、 前記含フッ素高分子化合物(C’)が、露光により酸を発生する構成単位(c0)と、下記一般式(c1)で表される構成単位(c1)とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (54件)：

2H125AF15P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF33P ,  2H125AF34P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH11 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AJ02S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA15P ,  4J100BA50Q ,  4J100BA56Q ,  4J100BB12Q ,  4J100BB18P ,  4J100BB18S ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC43Q ,  4J100BC83P ,  4J100BD10P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38