特許
J-GLOBAL ID：201103025786105630

フッ素化ビスフタロニトリル化合物およびその製造方法

発明者：
宇野 英満

宇野 英満 について


出願人/特許権者：
株式会社日本触媒

株式会社日本触媒 について


代理人 (2件)： 植木 久一 ,  小谷 悦司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-196931
公開番号（公開出願番号）：特開2005-035892
特許番号：特許第4427281号
出願日： 2003年07月15日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下記式で表されるフッ素化ビスフタロニトリル化合物。 [上記式中、XおよびYは互いに独立して酸素原子または硫黄原子を示す。]。
IPC (3件)：
C07D 319/24 ( 200 6.01) ,  C07D 327/08 ( 200 6.01) ,  C07D 339/08 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C07D 319/24 CSP ,  C07D 327/08 ,  C07D 339/08
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM