特許
J-GLOBAL ID：201103026070890995
マイクロレンズの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-289128
公開番号（公開出願番号）：特開2003-098318
特許番号：特許第4262910号
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 支持体上に、下記一般式(1)、一般式(2)又は一般式(3)で示される熱、酸または輻射線により親疎水性が変化する官能基を有するモノマーを表面グラフト重合させて、末端が支持体に直接結合した高分子化合物からなる受容パターン形成層を設けたパターン形成材料を形成し、該パターン形成材料に、円形に加熱、酸の供給または輻射線の照射を行って、該層の親疎水性を変化させる受容パターン形成工程と、
該円形の受容パターン上に該受容パターンと親和性を有するマイクロレンズ原料流動体を付着させて吸着層を形成する吸着層形成工程と、
該吸着層を硬化させる硬化工程と、
を有することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
一般式(1)中、Lはポリマー骨格に連結するのに必要な非金属原子から成る多価の有機基を表し、R1、R2は置換もしくは非置換アルキル基を表す。また、R1、R2はそれが結合している2級炭素原子(CH)と共に環を形成してもよい。
一般式(2)中、R3は水素原子を表し、R4は水素原子または炭素数18個以下のアルキル基を表し、R5は炭素数18個以下のアルキル基を表す。また、R3、R4およびR5の内の2つが結合して環を形成してもよい。
一般式(3)中、Xは-O-、-S-、-Se-、-NR8-、-CO-、-SO-、-SO2-、-PO-、-SiR8R9-、-CS-を表し、R6、R7、R8、R9は各々独立して、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-R10、-OR10、-OCOR10、-OCOOR10、-OCONR10R11、-OSO2R10、-COR10、-COOR10、-CONR10R14、-NR10R11、-NR10-COR11、-NR10-COOR11、-NR10-CONR11R12、-SR10、-SOR10、-SO2R10、及び-SO3R101から選択される1価の基を表し、Mは陽電荷を有するイオンを表す。ここで、R10、R11、R12は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。
IPC (3件)：
G02B 3/00 ( 200 6.01)
, B29D 11/00 ( 200 6.01)
, G02F 1/1335 ( 200 6.01)
G02B 3/00 Z
, G02B 3/00 A
, B29D 11/00
, G02F 1/133
