特許
J-GLOBAL ID:201103026168079764
放射線の位相角を直接測定する方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
大石 皓一
, 吉田 聡
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-345862
公開番号(公開出願番号):特開2000-186964
特許番号:特許第4505090号
出願日: 1999年12月06日
公開日(公表日): 2000年07月04日
請求項(抜粋):
【請求項1】 物体3によって反射され、あるいは、透明な物体を透過した放射線の位相角を直接測定する方法であって、
前記物体3に、あらかじめ定められた周波数を有するコヒーレントな放射線2を照射し、あるいは、前記物体3を、放射線を拡散的に反射する粒子を含むラッカーによって被覆して、前記物体3に、あらかじめ定められた周波数を有する非コヒーレントな放射線2を照射し、
前記物体3から反射された放射線あるいは前記物体3を透過した放射線を、画像形成光学システム6によって、センサ8が位置しているイメージ平面7内に、画像化し、
シアリング光学要素10、16、17、22、23、24、25を用いて、シアリング法によって生成された参照放射線を、前記センサ8上に重ね合わせ、
前記物体3からの放射線5の位相を、前記センサ8の測定信号から決定する方法において、
前記画像形成光学システム6が、1つのアパーチャーを有するダイアフラム19、あるいは、2つのアパーチャーを有するダイアフラム11を備え、
前記シアリング光学要素10、16、17、22、23、24、25が、前記ダイアフラム19、11と前記センサ8の間に配置されていることを特徴とする位相角測定方法。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (4件)
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光学装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-065630
出願人:セイコーエプソン株式会社
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特開平3-175327
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位相シフトマスク検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-218688
出願人:株式会社東芝