特許
J-GLOBAL ID:201103026347579486
蛍光潜像転写方法及びセキュリティパターン形成体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細井 勇
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-251487
公開番号(公開出願番号):特開2000-168243
特許番号:特許第3840351号
出願日: 1999年09月06日
公開日(公表日): 2000年06月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 少なくとも被転写体の表面に、情報が記録された受容層及び蛍光潜像によるセキュリティパターンが設けられている印画物において、上記セキュリティパターンが蛍光材料層と該蛍光材料層の上方にパターン状に設けられた紫外線吸収パターンとから構成されるものであり、上記受容層、紫外線吸収パターン及び蛍光材料層が転写層として形成された中間転写媒体を用い、被転写体の表面に中間転写媒体の転写層を転写させて設けたものであることを特徴とするセキュリティパターン形成体。
IPC (5件):
B41M 5/382 ( 200 6.01)
, B41M 5/50 ( 200 6.01)
, B41M 5/52 ( 200 6.01)
, B41M 5/40 ( 200 6.01)
, B42D 15/10 ( 200 6.01)
FI (4件):
B41M 5/26 101 H
, B41M 5/26 101 B
, B42D 15/10 501 P
, B42D 15/10 531 B
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平4-103389
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特開昭62-111800
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保護層転写フイルム及び印画物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-161886
出願人:大日本印刷株式会社
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