単収束ミラーによる反射型2次元パターン縮小転写法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村暁秀 (外5名)
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-335032
公開番号（公開出願番号）：特開平3-196513
出願日： 1989年12月26日
公開日（公表日）： 1991年08月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】転写すべきパターンを描いてあるパターン反射板に光線を入射させ、そこからの反射光線中に含まれるパターン像を一枚の凹面ミラーにより収束し、前記パターンの2次元縮小されたパターンを試料面上に転写するに当たり、前記凹面ミラーとして楕円の長軸および短軸からパターンの縮小比率に応じたある特定の角度だけ傾けられ、かつある特定の距離だけずらされた線を回転軸とする変則的な回転楕円体、またはその回転楕円体を基本としつつ微小な関数補正を行った形状をなしているものを用いることを特徴とする反射型パターン転写法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 9122-2H

FI (2件)：

H01L 21/30 331 A 7352-4M , H01L 21/30 311 L 7352-4M

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭64-010625
特開昭63-005520
特開昭63-187626

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