特許
J-GLOBAL ID:201103026588383507

化粧基材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 西川 惠清 ,  森 厚夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-207200
公開番号(公開出願番号):特開2011-056362
出願日: 2009年09月08日
公開日(公表日): 2011年03月24日
要約:
【課題】基材1表面の凸部5にインクジェット塗装を行う際に印刷のズレが生じた場合でも、それを目立ちにくくすることができ、意匠性を高めることができる化粧基材の製造方法を提供する。【解決手段】凸部5を有する基材1表面に化粧を施すことで化粧基材9を製造する方法であって、以下の(1)乃至(3)のステップを順次経る。(1)基材1表面全体に第一の化粧層2を設けるステップ、(2)基材1表面の凸部5の全部または一部にのみ受理層3を設けるステップ、及び(3)受理層3が設けられた部分に第二の化粧層4をインクジェットにより印刷するステップ。【選択図】図1
請求項(抜粋):
凸部を有する基材表面に化粧を施すことで化粧基材を製造する方法であって、以下の(1)乃至(3)のステップを順次経ることを特徴とする化粧基材の製造方法。 (1)基材表面全体に第一の化粧層を設けるステップ、 (2)基材表面の凸部の全部または一部にのみ受理層を設けるステップ、及び (3)受理層が設けられた部分に第二の化粧層をインクジェットにより印刷するステップ。
IPC (3件):
B05D 1/26 ,  B05D 5/06 ,  E04F 13/08
FI (3件):
B05D1/26 Z ,  B05D5/06 101D ,  E04F13/08 E
Fターム (24件):
2E110AA57 ,  2E110AB04 ,  2E110AB22 ,  2E110AB23 ,  2E110BA04 ,  2E110BA05 ,  2E110BA12 ,  2E110BB05 ,  2E110BB22 ,  2E110EA09 ,  2E110GA13X ,  2E110GA33X ,  2E110GA42X ,  2E110GB23X ,  2E110GB44W ,  2E110GB62X ,  4D075AC06 ,  4D075CB40 ,  4D075DA06 ,  4D075DA07 ,  4D075DB12 ,  4D075DC01 ,  4D075EA05 ,  4D075EA33
引用特許:
審査官引用 (2件)

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