特許
J-GLOBAL ID：201103026708196706
シルセスキオキサン系ポリマーを含む耐熱性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された被膜、及びその被膜の作成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-091233
公開番号（公開出願番号）：特開2002-284878
特許番号：特許第3530938号
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式(1)(HSiO3/2)n (1)(式中、nは4〜1000の整数である。)で表されるヒドリドシルセスキオキサン類又はそれらの混合物と、一般式(2)R-C≡C-(R')q-C≡C-R (2)(式中、Rは置換基を有していても良い一価の有機基又は有機ケイ素基を示し、R'は置換基を有していても良い二価の有機基又は有機金属基を示す。qは0又は1である。)で表されるビス(置換エチニル)化合物との反応又は 一般式(3)R''-C≡CH (3)(式中、R''は水素、置換基を有していても良い一価の有機基又は有機ケイ素基を表す。)で表されるモノアセチレン類との反応で得られたヒドロシリル化重合体、又はその重合体のケイ素原子に結合する水素原子の一部がアルキル基或いはアラルキル基で置換されたヒドロシリル化重合体を含有する耐熱性樹脂組成物を有機溶媒に溶解させた溶液を基材上に展開し、空気又は不活性ガスの雰囲気下、40°C以上300°C未満の温度で1分〜10時間加熱することを特徴とする被膜の作成方法。
IPC (5件)：
C08G 77/50
, C08F 299/08
, C09D 5/25
, C09D 183/14
, H01L 21/312
C08G 77/50
, C08F 299/08
, C09D 5/25
, C09D 183/14
, H01L 21/312 C
