特許
J-GLOBAL ID:201103026880406917
新規な光感受性ポリベンゾオキサゾール前駆体組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
高木 千嘉
, 結田 純次
, 三輪 昭次
, 西村 公佑
, 杉本 博司
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-572720
特許番号:特許第3763348号
出願日: 1999年09月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 以下の一般式で表される酸に不安定な官能基を含むポリベンゾオキサゾール前駆体、
[式中、
k1は1または2の整数であり、k2は0または1の整数であり、k1とk2との合計は2であり;
Ar1は4価の芳香族基、脂肪族基または複素環基あるいはこれらの混合物であり;
Ar2は
-C(=O)-C(=O)-、-C(=O)-O-、ZがHまたはアルキルであり、pが1〜6の整数である
およびその混合物
(ここでX2は-O-、-S-、-C(CF3)2-、-C(CH3)2-、-CH2-、-SO2-、-NHCO-、および-C(=O)-である)からなる群から選択される基であり;
Dは酸に不安定な1価の基であり;そしてnは20〜200の整数であり、この場合、ジアミン化合物の割合が0〜60モル%であり、ジアミンとジアミノジヒドロキシ化合物との合計が100%であるように、Ar1の一部が2価の芳香族、脂肪族または複素環のジアミン部分であってよい]
光による酸の生成剤、
溶媒、および
場合によっては光増感剤
を含むポジとして作用する光感受性組成物。
IPC (4件):
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08L 79/04 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (4件):
G03F 7/039 601
, C08L 79/04 B
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (2件)
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ポジ型感光性耐熱材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-354657
出願人:旭化成工業株式会社
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特開平3-204649
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