特許

J-GLOBAL ID：201103026980813030

有機EL用マスククリーニング装置、有機ELディスプレイの製造装置および有機EL用マスクのクリーニング方法

発明者： 井崎 良 ,  弓場 賢治 ,  片桐 賢司 ,  木谷 友香
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 影井 俊次 ,  影井 慶大
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-090066
公開番号（公開出願番号）：特開2011-222289
出願日： 2010年04月09日
公開日（公表日）： 2011年11月04日
要約：

【課題】有機EL用マスクに対して復元不能なダメージを与えることなく、且つクリーニング速度の高速化を図ることを目的とする。【解決手段】有機EL用マスク1の表面に付着した有機材料50を剥離するためのレーザ光Lを発振するレーザ光源31と、レーザ光Lの強度分布をガウス形状から平均的な分布(トップハット形状)に変換するビーム整形光学系33と、強度分布が変換されたレーザ光Lを有機EL用マスク1の表面に走査させるXガルバノミラー35およびYガルバノミラー36を有する走査光学系と、を備えている。この構成により、レーザ光Lの強度分布が平均的になり、有機EL用マスク1に復元不能なダメージを与えなくなり、且つクリーニング速度が高速化する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

有機EL用マスクの表面に付着した有機材料を剥離するためのレーザ光を発振するレーザ光源と、 前記レーザ光の強度分布をガウス形状から平均的な分布になるように変換する強度分布変換手段と、 前記強度分布が変換されたレーザ光を前記有機EL用マスクの表面に走査させる走査光学系と、 を備えたことを特徴とする有機EL用マスククリーニング装置。

IPC (3件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C23C 14/04

FI (3件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  C23C14/04 A

Fターム (16件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC35 ,  3K107CC42 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029HA01