特許
J-GLOBAL ID：201103027198666105
シリコンウエハーの洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 正康 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-246972
公開番号（公開出願番号）：特開平3-108717
特許番号：特許第2906156号
出願日： 1989年09月22日
公開日（公表日）： 1991年05月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】一枚若しくは少数枚の被洗浄ウエハのフラット面が重力方向に平行となるように保持するキャリアと、このキャリアに保持された被洗浄ウエハーのフラット面に対して平行な側板と直角な仕切り板とにより形成された複数の洗浄槽およびこの洗浄槽の後段に配置された水洗槽と、前記キャリアを上下方向に駆動するとともに前記複数の洗浄層の端部から順次前記水洗槽側に搬送する自動搬送機と、この自動搬送機を制御するプログラム制御回路と、前記キャリアの上下動を検出するセンサと、前記洗浄水を加温する加温手段と、前記側板側から前記被洗浄ウエハのフラット面に向けて洗浄水を噴射する複数のシャワー手段とからなり、前記制御回路は前記センサが検知したキャリアの上下動に基づいて前記シャワー手段を駆動し、前記洗浄槽を選択的に使用する場合は前記加温手段の電源をオフとなるように制御することを特徴とするシリコンウエハーの洗浄装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
審査官引用 (2件)
-
特開昭59-031039
-
特開昭50-020571
前のページに戻る
