特許
J-GLOBAL ID：201103027326340641
噴流層装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江原 省吾 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-238729
公開番号（公開出願番号）：特開2001-062277
特許番号：特許第3352059号
出願日： 1999年08月25日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理容器と、処理容器の処理室の底部に配設され、中央領域の開口率が周辺領域の開口率よりも大きい気体分散板と、気体分散板と所定の距離を隔てて設置され、気体分散板の中央領域と対向する下端開口部を有する筒状のドラフトチューブと、気体分散板の中央部に設置されたスプレーノズルとを備え、気体分散板を介して処理室内に流動化気体を導入し、ドラフトチューブ内の上昇気流に乗って上昇する粒子に向けてスプレーノズルから上向きにスプレー液をスプレーすることにより、該粒子の表面に被覆層を形成する噴流層装置において、前記ドラフトチューブの下端開口部を下方に向かって拡大する円錐筒状にし、前記ドラフトチューブの下端開口部の最大断面積が前記気体分散板の中央領域の面積よりも大きくなるようにしたことを特徴とする噴流層装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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