特許

J-GLOBAL ID：201103027847713134

爪装飾の形成方法およびその除去方法、並びに、爪装飾および爪装飾用キット

発明者： 西川 耕二 ,  白武 俊太郎
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (2件)： 大渕 美千栄 ,  布施 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-103541
公開番号（公開出願番号）：特開2011-229725
出願日： 2010年04月28日
公開日（公表日）： 2011年11月17日
要約：

【課題】爪への密着性が良好で、しかも除去する際に指先や爪への負担が小さい爪装飾、および該爪装飾の除去方法を提供する。【解決手段】本発明にかかる爪装飾の形成方法は、爪の上に、(A)(メタ)アクリロイル基を2個以上有する重量平均分子量600〜50,000の化合物、(C)光ラジカル重合開始剤、及び、(D)ラジカル重合抑制剤、を含有する第1組成物を塗布し、光を照射する工程と、少なくとも(メタ)アクリロイル基を有する化合物、及び、光ラジカル重合開始剤を含有する第2組成物を塗布し、光を照射する工程と、を含み、前記第1組成物に含まれる(D)成分の含有量が前記第1組成物全体の0.3〜5質量%であることを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

爪の上に、 (A)(メタ)アクリロイル基を2個以上有する重量平均分子量600〜50,000の化合物、 (C)光ラジカル重合開始剤、及び、 (D)ラジカル重合抑制剤、 を含有する第1組成物を塗布し、光を照射する工程と、 少なくとも(メタ)アクリロイル基を有する化合物、及び、光ラジカル重合開始剤を含有する第2組成物を塗布し、光を照射する工程と、 を含み、 前記第1組成物に含まれる(D)成分の含有量が前記第1組成物全体の0.3〜5質量%であることを特徴とする爪装飾の形成方法。

IPC (1件)：

A45D 29/18

FI (1件)：

A45D29/18