特許
J-GLOBAL ID：201103028187172115

基板処理装置及び基板処理方法

発明者：
谷山 智志

谷山 智志 について


出願人/特許権者：
株式会社日立国際電気

株式会社日立国際電気 について


代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-013184
公開番号（公開出願番号）：特開2000-216149
特許番号：特許第4364962号
出願日： 1999年01月21日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】金属製のロードロック室と該ロードロック室に気密に連設される石英製の反応管とを少なくとも具備し、前記ロードロック室と反応管とはロードロック室に穿設された炉口孔を通して連通され、ウェーハはボートに装填された状態で前記反応管に装入され処理される基板処理装置に於いて、前記ボートは石英製の石英キャップベースに設けられ、ボート装入時には石英キャップベースが前記反応管フランジに当接して反応管を閉塞し、ボート引出し時には炉口シャッタが前記ロードロック室に当接して前記炉口孔を閉塞することを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  C23C 16/44 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  H01L 21/22 ( 200 6.01) ,  H01L 21/677 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 F ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 Q ,  H01L 21/68 A
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 半導体製造装置の縦型炉
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-307272   出願人：国際電気株式会社
  • 特開平3-151632
  • ウエーハ熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-352868   出願人：株式会社山形信越石英, 信越石英株式会社
審査官引用 (1件)

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