特許
J-GLOBAL ID：201103028204762460
転写装置および転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-164569
公開番号（公開出願番号）：特開2011-020272
出願日： 2009年07月13日
公開日（公表日）： 2011年02月03日
要約：
【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、簡素な構成や工程で、前記被成型品での気泡の発生を防いだ転写をする。【解決手段】シート状のモールドMに形成されている微細な転写パターンを、被成型品Wに転写するための転写装置1において、転写をするときに、被成型品Wと、被成型品Wと協働してシート状のモールドMを挟み込んで押圧する押圧体5とが内部に位置する真空成型室17であって、被成型品が設置される真空成型室17と、押圧体5が位置する真空成型室とに、シート状のモールドMによって仕切られる真空成型室17を形成する真空成型室形成手段と、前記真空成型室を仕切るシート状のモールドに貫通孔を形成する貫通孔形成手段9と、前記真空成型室を減圧する減圧手段11とを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、
前記転写をするときに、前記被成型品と、前記被成型品と協働して前記シート状のモールド挟み込んで押圧する押圧体とが内部に位置する真空成型室であって、前記被成型品が設置される第1の真空成型室と、前記押圧体が位置する第2の真空成型室とに、前記シート状のモールドによって仕切られる真空成型室を形成する真空成型室形成手段と;
前記真空成型室形成手段で形成された真空成型室を仕切る前記シート状のモールドに、前記第1の真空成型室と前記第2の真空成型室とをお互いにつなぐための貫通孔を形成する貫通孔形成手段と;
前記真空成型室形成手段で形成された真空成型室を減圧する減圧手段と;
を有することを特徴とする転写装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C59/02 B
, H01L21/30 502D
4F209AA44
, 4F209AC05
, 4F209AD04
, 4F209AD10
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH38
, 4F209AH79
, 4F209AJ03
, 4F209AK03
, 4F209AM28
, 4F209PA02
, 4F209PA15
, 4F209PB01
, 4F209PG05
, 4F209PH27
, 4F209PN06
, 4F209PN07
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
