特許
J-GLOBAL ID:201103028257476168

半導体集積回路装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 守 (外1名)
公報種別:特許公告
出願番号(国際出願番号):特願平1-308003
公開番号(公開出願番号):特開平3-166761
出願日: 1989年11月27日
公開日(公表日): 1991年07月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】主表面を有する半導体基板と、前記主表面上に形成される第1の導電領域と、前記主表面上に、前記第1の導電領域と間を隔てて形成され、かつ前記第1の導電領域と電気的に接続されるべき第2の導電領域と、前記第1の導電領域および第2の導電領域に接続された容量素子とを含み、前記容量素子は、前記第1の導電領域と第2の導電領域とを電気的に接続するための第1の導電層と、前記第1の導電層の上に形成された誘電体膜と、前記誘電体膜上に形成された第2の導電層とを含む半導体集積回路装置。
IPC (3件):
H01L 27/108 ,  G11C 11/401 ,  H01L 21/8242
FI (3件):
H01L 27/10 681 E 7735-4M ,  H01L 27/10 621 Z 7735-4M ,  G11C 11/34 352 Z

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