特許
J-GLOBAL ID：201103028370379055
ガス導入管及びこれを用いた薄膜成長装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-027594
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228362
特許番号：特許第3498617号
出願日： 1999年02月04日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】中空体の一端部に備えたガスの導入口から他端部に備えたガスの放出口に至るガス通路を複数積層したガス導入管であって、前記複数のガス通路が、金属製の天板及び底板と、同天板及び底板の間に挟み込まれた金属製の複数の側壁体と、同側壁体の間に挟み込まれた金属製の仕切板とに囲まれ形成される空間であることを特徴とするガス導入管。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 16/455
, C30B 25/14
, C30B 35/00
H01L 21/205
, C23C 16/455
, C30B 25/14
, C30B 35/00
