特許
J-GLOBAL ID：201103028392681200
窒化ホウ素膜の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田中 重光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-080474
公開番号（公開出願番号）：特開平2-259059
特許番号：特許第2761026号
出願日： 1989年03月31日
公開日（公表日）： 1990年10月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】真空中に窒素および希ガスの混合ガスを供給し,基材に対してホウ素の蒸着とイオン源で発生させた窒素および希ガスの混合イオン照射を同時に行うことを特徴とする窒化ホウ素膜の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (2件)
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特開昭60-063372
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特開昭62-077454
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